Aixtron liefert Hochtechnologie für Galliumoxid-Forschung an die Ohio State University
Mirjana Schacht
Aixtron liefert Hochtechnologie für Galliumoxid-Forschung an die Ohio State University
Die Ohio State University (OSU) hat sich für ein spezialisiertes System des deutschen Unternehmens Aixtron entschieden, um die Forschung an Galliumoxid voranzutreiben. Die Technologie des Herstellers wird im Nanotech West Lab der OSU installiert und stärkt damit deren Rolle in der Entwicklung von Halbleitern der nächsten Generation. Dieser Schritt erfolgt zu einem Zeitpunkt, an dem weltweit immer mehr Institutionen Galliumoxid für die Power-Elektronik der Zukunft erkunden.
Mit dem Close Coupled Showerhead® (CCS)-System von Aixtron wird das epitaktische Wachstum von Galliumoxid und Aluminium-Galliumoxid auf 100-Millimeter-Substraten ermöglicht. Die Anlage, die aufgrund ihrer Fähigkeit ausgewählt wurde, hochwertige und gleichmäßige Dünnschichten herzustellen, unterstützt die Forschung der OSU am Institute for Materials and Manufacturing Research. Diese Zusammenarbeit festigt Aixtrons Position als führender Anbieter von Metallorganischer Gasphasenepitaxie (MOCVD).
Galliumoxid rückt zunehmend als potenzielles Durchbruchsmaterial in der Leistungselektronik in den Fokus. Während Mitbewerber auf etablierte Halbleiter setzen, liefert Aixtron bereits Ausrüstung für ultra-breitbandige Materialien. Fühende Forschungseinrichtungen – darunter das deutsche Fraunhofer-Institut, das Leibniz-Institut für Kristallzüchtung und das IOM Leipzig – treiben ebenfalls die Galliumoxid-Technologie voran, oft mit epitaktischen Wachstumsverfahren ähnlich der MOCVD.
Die Aktie des Unternehmens spiegelt diesen Aufschwung wider: Sie notiert bei 18,79 Euro und übertrifft ihren 200-Tage-Durchschnitt. Seit Januar haben die Aktien fast 40 Prozent zugelegt – ein Zeichen für das Vertrauen der Anleger in den frühen Zugang zu Spitzenmaterialien der Halbleiterbranche.
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Die Partnerschaft mit der OSU stärkt Aixtrons Stellung in der aufstrebenden Halbleiterforschung. Das CCS-System wird nun eine zentrale Rolle bei der Entwicklung von Galliumoxid-Anwendungen an einer der führenden US-Universitäten spielen. Angesichts des wachsenden Interesses globaler Institutionen erweitert sich das Potenzial dieser Technologie in der Leistungselektronik weiter.
